CVD dijamantni premaz može dati potpunu igru izvrsnim svojstvima dijamanta za zaštitu supstratnog materijala, ima visoku površinsku tvrdoću, može poboljšati otpornost na habanje materijala supstrata, poboljšati podmazivanje površine supstrata i proširiti vijek trajanja materijala. Međutim, taloženje dijamantskog prevlaka CVD-a na različitim supstratima općenito ima problem lošeg filmskog adhezije, što ozbiljno utječe na učinak uporabe dijamantskog prevlačenja CVD-a, pa je prihvaćeno prethodno obradu materijala za supstrat kako bi se poboljšalo filmsko-temeljeno prianjanje. Metode prethodne obrade koje se koriste za različite materijale supstrata također se razlikuju. Dopustite mi da vam dam kratak uvod.
1. prethodna obrada supstrata zacementiranih karbida
1) Tretman uklanjanja kobalta na površini
HCI, HNO3, H2TAKO4a druge kiseline su odabrane za utiskivanje kobaltnih elemenata na vanjskoj površini supstrata. Vodinska plazma ili vodikovu plazmu koja sadrže kisik koristi se za etch kobaltne elemente; Kemijski reagensi, pasivacija i druge metode koriste se za stvaranje kobaltovog elementa na vanjskoj površini supstrata izgubi svoju aktivnost.
2) Stavite prijelazni sloj
Usklađeni između CVD dijamantnog premaza i supstrata, intermedijarni prijelazni sloj zadovoljava kriterije skromnog koeficijenta toplinske ekspanzije, stabilnih kemijskih karakteristika, izvrsne adhezije s cementiranim karbidom i dijamantom, a može reagirati s kobaltom kako bi se stvorio stabilni spoj. Postojanje intermedijarnog prijelaznog sloja omogućava unutarnji stres generiran razlikama koeficijenta rešetka i toplinskog širenja između dijamantskog filma i supstrata zacementiranog karbida koji se uklanja, pa sprečavajući prekomjerni prodor ugljika u podvrsta i širenje kobalta, iz substrata u supstratu u dubinu u dubinu u dubini u substratu u substalt u dubini od substrata u dubini u tlaku u dubini od substrata u dubini od substrata u dubini od substrata u dubini od substrata u dubini od substrata u tlačenju u substratu u dubinu u tlačenju u tlaku u substratu u dubinu.
3) Tretman implantacije na površini
Površina zacementiranog karbidnog supstrata sonizira se s ovjesom koji sadrži dijamantni prah (poput acetona) ili dijamantni prah nano-skali ravnomjerno je raspoređen površinom supstrata kroz aceton, a zatim zagrijava laserom da bi se ugradio dijamantni prah u površinsku fazu.
2. Prethodna obrada izgleda bakrenog supstrata
Prijelazni sloj nikla unaprijed je postavljen na bakreni supstrat kemijskom metodom slaganja faze pare, a kokorystals bakra-nickel formiran između nikla i bakrenog supstrata u uvjetima žarenja visoke temperature poboljšao je filmsko povezivanje. Studije su također pokazale da upotreba prijelaznog sloja titana na bakra također može učinkovito poboljšati adheziju filmske baze.
3. Prethodna obrada izgleda čelika ili željeznog supstrata
Volfram na površini čelika, silicij-karbida na čeličnoj brzini, nikl za oblaganje od nehrđajućeg čelika i premaz bakra\/renium na željeznom supstratu može eliminirati efekt grafititizacije željeza i dobiti dijamantni oblaganje CVD-a s dobrom filmskom adhezijom.
4. PRETHODNI PREDMETAK SILICON
Budući da silicij ima istu strukturu rešetke kao i dijamant, silicij je od velikog značaja kao heteroepitaksijalni materijal matrice. Međutim, zbog velike površinske energije dijamanta i velikog neusklađenosti rešetke između supstrata, brzina nukleacije dijamanta na glatkoj silicijskoj matrici vrlo je niska. Taloženje dijamantskog epitaksijskog filma na silicijskom supstratu može se realizirati mehaničkim mljevenjem dijamantskog praha, ultrazvučnim čišćenjem, prethodnim obradom prijelaznog sloja supstrata i silicijevog karbida na silicijskom supstratu i strogom kontrolom testnih uvjeta.
Cilj je poboljšati interakciju vezanja između materijala supstrata i dijamantnog premaza CVD -a kao brzo objašnjenje tehnike prethodne obrade supstrata za oblaganje CVD dijamanta otkriva da je prethodna obrada različitih supstrata vrlo raznolika. Molimo kontaktirajte s nama ako želite više informacija.